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管線(xiàn)式硫酸鋇研磨分散機(jī)的特點(diǎn)： ①線(xiàn)速度很高，剪切間隙非常小，當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨 ②定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。 ③定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離 ④在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。 ⑤高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿(mǎn)足不同行業(yè)的多種要求。

電阻材料分散機(jī)電阻漿料高剪切分散機(jī)，，漿料分散機(jī)，電阻漿料分散機(jī),是以貴金屬為導(dǎo)電相、用于制造厚膜電阻的漿料。主要用作厚膜電阻器、電阻網(wǎng)絡(luò)、混合集成電路以及特殊用途的電阻器和電極。

【食品單級(jí)管線(xiàn)式分散機(jī)的概述】 食品單級(jí)分散機(jī)，可生產(chǎn)粒徑較大但粒徑分布范圍較窄的乳液。它具有較高的剪切率，保證了混合液的穩(wěn)定性。選用不同的分散頭（定子+轉(zhuǎn)子）組合，可滿(mǎn)足不同的工藝和流體學(xué)要求。

納米光觸媒分散機(jī)，光觸媒研磨分散機(jī)，納米二氧化鈦分散機(jī)，光觸媒超細(xì)分散機(jī)，納米分散機(jī)，光觸媒是一種以納米級(jí)二氧化鈦為代表的具有光催化功能的光半導(dǎo)體材料的總稱(chēng)。 在所有的光觸媒材料中，納米TiO2不僅具有很高的光催化活性，且具有耐酸堿腐蝕、耐化學(xué)腐蝕、無(wú)毒等優(yōu)點(diǎn)，價(jià)格也適中，具有較高的性?xún)r(jià)比，因而市場(chǎng)上大多使用納米二氧化鈦?zhàn)鳛橹饕牧稀?/p>

辣椒醬分散機(jī)GMD2000系列特別適合于膠體溶液，超細(xì)懸浮液和乳液的生產(chǎn)。除了高轉(zhuǎn)速和靈活可調(diào)的定轉(zhuǎn)子間隙外，GMD在摩擦狀態(tài)下工作，也就被稱(chēng)做濕磨。在錐形轉(zhuǎn)子和定子之間有一個(gè)寬的入口間隙和窄的出口間隙，在工作中，分散頭偏心運(yùn)轉(zhuǎn)使溶液出現(xiàn)渦流，因此可以達(dá)到更好的研磨分散的效果。GMD2000整機(jī)采用幾何機(jī)構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子，的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料，可以滿(mǎn)足不同行業(yè)的多種需求。

【管線(xiàn)式小型分散機(jī)的簡(jiǎn)介】 專(zhuān)為實(shí)驗(yàn)室研發(fā)，模擬生產(chǎn)流程，為量產(chǎn)提供可靠的數(shù)據(jù)論證。該中試型型機(jī)器和大型量產(chǎn)機(jī)型配置相同，且分散頭的種類(lèi)及相應(yīng)線(xiàn)速度也相同，中試過(guò)程中的工藝參數(shù)在量產(chǎn)化之后不要重新調(diào)整，而將機(jī)器型號(hào)升級(jí)過(guò)程中的風(fēng)險(xiǎn)降到Z低。

硅藻土分散機(jī) ，的高的轉(zhuǎn)速和剪切率對(duì)于獲得超細(xì)微懸浮液是Z重要的。根據(jù)一些行業(yè)特殊要求，思峻公司在GR2000系列的基礎(chǔ)上又開(kāi)發(fā)出GRS2000超高速分散機(jī)。其剪切速率可以超過(guò)100.00 rpm，轉(zhuǎn)子的速度可以達(dá)到40m/s。在該速度范圍內(nèi)，由剪切力所造成的湍流結(jié)合專(zhuān)門(mén)研制的電機(jī)可以使粒徑范圍小到納米級(jí)。剪切力更強(qiáng)粒經(jīng)分布更窄。由于能量密度*,無(wú)需其他輔助分散設(shè)備。

導(dǎo)電漿料均質(zhì)分散機(jī)的設(shè)備特點(diǎn) GRS設(shè)備與傳統(tǒng)設(shè)備相比： 高效,節(jié)能 傳統(tǒng)設(shè)備需8小時(shí)的分散加工過(guò)程,GRS設(shè)備1小時(shí)左右完成,超細(xì)分散*,能耗極大降低； 高速,高品質(zhì)